Ion Coater
イオンコーター(スパッタ装置) 
  型番: SPT20-AB

仕様
ターゲットサイズ :50 mm (Auターゲット付属)
イオン電圧 :~ 1kV 
イオン電流 :1~9 mA
コーティング時間 :10 - 500 sec
真空ポンプ :50ml/min推奨
寸法(mm) :420(W) x 220(D) x 230(H)
電源 :100-240V 50/60Hz, 500W
重量 10 kg
価格 :¥1,300,000
       
Setting
スパッタリング条件はLCD画面(左図)にターゲット種類、電流値、処理時間を▲▼ボタンで選択して簡単に設定できます
Target: Au, Pt (Pd, Cr, Pt-Pd, Cu, Agなど)
Current:1 - 9 mA
Time:10 - 990 sec
       
Process
スパッタリング中はLCD画面(左図)に真空レベルと処理時間が表示されます
       
Thickness Rate

電流値: 3mA, 5mA, 7mA
X: 時間
Y: 膜厚 

       
Polymer Ceramic Metal cross section Aluminum 
Cu powder Si wafer PCB Solar cell
Membrane Dental implant Hair Mosquito






Sputter and Carbon Coater system   
スパッタ、カーボンコーターは4つのモジュールから構成されています
使用目的等により、必要なモジュールユニットを選択して使用できます
- Sputter Module(スパッタユニット)
- Carbon Module(カーボン ユニット)
- Vacuum control Base(真空調整ユニット)
- Thickness Monitor(スパッタ膜厚モニターユニット)

特 長
●省スペース/ベンチトップスパッタコーター
●全ての形、サイズに均一なコーティング
●不活性ガス-IN/OUTポート
●サンプルステージの冷却可能
●サンプルへの熱損傷がありません
●サンプルステージの可動、カソードとの距離調整可能
●各種スパッタリングカソード(Au、Au/Pd、Pt、Pd、Ag)


Sputter Coater
スパッタシステム

●Sputter Module
●Vacuum control Module

オプション
●エッチングモード機能
●膜厚モニター(QCM)
●真空ポンプ(排気量50L/min推奨)
   
       
型番  品名  価格
12151-AB スパッタシステム 1,650,000
12151E-AB スパッタ/エッチモードシステム 1,910,000
12151Q-AB  スパッタ/膜厚モニターシステム 1,970,000
12151EQ-AB スパッタフルシステム(エッチモード、膜厚モニター) 2,250,000
14155-AB Au(100%)カソード電極 57mm径 x 0.254mm 290,000
14156-AB Au(60%)/Pd(40%)カソード電極 57mm径 x 0.254mm 200,000
14157-AB Pt(100%)カソード電極 57mm径 x 0.254mm 330,000
14158-AB Pd(100%)カソード電極 57mm径 x 0.254mm 190,000
14163-AB Ag(100%)カソード電極 57mm径 x 0.254mm 80,000
 


Carbon Coater
カーボンコーターシステム

●Carbon Module(ファイバーヘッド)
●Vacuum control Module

オプション
●カーボンロッドヘッド
●真空ポンプ(排気量50L/min推奨)
       
型番  品名  価格
11427-AB カーボンコーターシステム(カーボンファイバー仕様) 1,650,000
11431-AB カーボンファイバー 100 cm, 2 mm径 4,000
11436-AB  カーボンファイバー 100 cm, 1.3 mm径 8,500
11435-AB カーボンファイバー 100 cm, 1 mm径 8,500
11433-AB カーボンファイバー 100 cm, 0.8 mm径 4,000
11439-AB カーボンロッド用ヘッド 260,000
01681-BA 蒸着カーボンロッド 60 mm x 1/8"(3.2 mm)径 (10本) 5,000
01682-BA 蒸着カーボンロッド 60 mm x 1/4"(6.35 mm)径 (10本) 6,000
01685-BA 蒸着カーボンロッド 300 mm x 1/8"(3.2 mm)径 (10本)  14,000
01686-BA 蒸着カーボンロッド 300 mm x 1/4"(6.35 mm)径 (10本)  14,000
01688-BA 蒸着カーボンロッド 300 mm x 3/16"(4.76 mm)径 (10本)  16,000
    


Sputter/Carbon Coater
スパッタ/カーボンコーターシステム

●Sputter Module
●Carbon Module(ファイバーヘッド)
●Vacuum control Module

オプション
●エッチングモード機能
●膜厚モニター(QCM)
●真空ポンプ(排気量50L/min推奨)
  
型番  品名  価格
12155-AB スパッタ/カーボンコーターシステム 2,320,000
12151E-AB スパッタ(エッチモード)/カーボンコーターシステム 2,590,000
12151Q-AB  スパッタ(膜厚モニター)/カーボンコーターシステム 2,640,000
12151EQ-AB スパッタ/カーボンコーターフルシステム
(エッチモード、膜厚モニター)
2,920,000
 
       




UV Prep for SEM 
SEM試料用UVOクリーナー
すべてのSEM試料表面には試料作製時または保存状態によって、ハイドロカーボンで被覆されています。この汚染は特にFE-SEMで試料表面の分解能に影響し、阻害します。UV Prepは試料自体に影響を与えることなく、ハイドロカーボン膜除去に最適なシステムです。

UV Prepは多種多様なサンプルに対応
● 金属, 金属酸化物
● セラミックス
● 半導体
● Li 電池カソード材料
● ポリマー
● CNT, グラフェン
● AFM, SPMプローブ
● 生物学的サンプル

型番: 12210-AB
価格: ¥3,600,000

特 徴
● UV Prepは炭化水素結合を効果的に破壊するためにカスタマイズされたUV光源を使用
● サンプル表面の炭化水素を取り除き、サンプル破壊はありません
● マイクロプロセッサー制御により、再現可能な操作メニューの保存
● ドライダイアフラムポンプ内蔵により、チャンバー内を清潔に保ちサンプル処理を行います
● オゾンスクラバー内蔵により、生成されたオゾンは大気中に放出  されません 


仕 様
マイクロプロセッサ制御
真空クリーン/ストレージモード
洗浄時間:1〜30分(1分ステップ)
真空システム:ドライポンプ内蔵
真空レベル:120秒でポンプダウン
寸法:360 x 390 x 480 mm
重量:17kg
電源:100〜240V(50/60Hz)


Gold on Carbon Before UV

Gold on Carbon After UV
 
 
Si substrate Before UV Si subatrate After UV




Plasma PerpTM
プラズマプレップ for アッシング・エッチング・クリーニング   
Plasma-Prep III はドライプラズマ化学反応による、エッチング、アッシング研究開発用途におけるレジスト剥離、有機物除去、灰化,界面活性,マイクロ研磨などに優れた性能を持ち、ライフサイエンス, 物質科学, 電子工学, SEM/TEM試料調整など、広くその効果を発揮します。


アプリケーション

● 電子部品等の有機物除去 
● 基板クリーニング 
● 金属酸化膜の除去     
● 界面活性処理
● 酸化膜のエッチング     
● アッシング(灰化)   
● SEM/TEM試料作製


特 長
●コンパクト設計: ベンチトップ/省スペースのプラズマエッチャー
●反応チャンバー: 反応ガスに応じて、PYREXまたは石英を選択
●低温操作: 試料構造を破壊することなく有機物を灰化
●安定性: 高出力で長時間操作が行えます
●処理時間: SiO2, Si3N4被膜厚エッチング(1um/1時間), 混成物の洗浄(数分),
 メンブレンフィルター灰化(30分) ※プロセス時間は使用ガスによります

Glass passivated circuit



装置仕様
Model  PYREXチャンバーModel 石英チャンバーModel
型番 11050-AB 11050Q-AB 
方式 ダイレクトプラズマ方式 
電極構造 対向電極 
出力 1 - 100W 
周波数 13.56 MHz 
電力増幅 ソリッドステート増幅方式 
同調方式 マニュアル 
制御・表示 デジタル表示 
反応槽 PYREX: 105mm径 x 150mm 石英: 105mm径 x 150mm
反応ガス 酸素、アルゴン 酸素、アルゴン、CF4
ガス導入口 1/4ホースバルブ 
真空ポンプ NW16フランジ 
真空排気口 ロータリー真空ポンプj: 50L/min推奨 
真空センサ 真空ゲージ内蔵 
寸法(mm) 300(W) x 376(D) x 267(H) 
電源 110V 50/60Hz, 15A 
重量 14.5 kg 
安全対策 電源遮断インターロックスイッチ 
価格 ¥2,500,000 ¥2,800,000 


 
Plasma Prep™ III Process Controller
混合ガスプロセスコントローラー

型番: 11052-AB
価格: ¥750,000

● ガス流量制御 
● 2つの入力ガスを均等に混合
● プロセス時間制御

寸法
241(W) x 267(D) x 177 (H) mm

 




WetCell Ⅱ
Liquid probe system for SEM/EDS, EPMA & TOF-SIMS
WetCellⅡはEM環境における液体分析のための次世代デバイスです。高真空対応のデバイスは自然状態の流体を特徴づけるための分析を可能にします。デバイスプラットフォームに液体がロードされると、デバイスを電子顕微鏡チャンバーに挿入して分析が開始できます。
デバイスはIn-Situ chemical probingまたは液体中の試料の分子イメージングに使用できます。潜在的な応用分野は液界面化学、微生物学、ドラッグデリバリー、反応解析などがあります。

WetCell II 仕様
● 内臓型高真空対応
● バッテリー駆動ポンプ
● マイクロ流体ブロック
● 電子透過SiN膜

● 200μl リザーバー
● 流量 <2μL/分
● コンタミネーションフリー

型番: 12130-AB
価格: ¥1,800,000

75 x 100 x 25 mmのプラットフォームは、サンプルの分析に必要なすべてのコンポーネントが含まれており、ほとんどの電子顕微鏡に適応可能です。 脱気した液体は、200μlのリザーバーへシリンジポンプによってロードされます。メインチャンバーはSiNメンブレン付きPDMSブロックで構成されています。このPDMSブロックはコンタミネーションを避けるためディスポーザブルになっており、サンプルごとに交換可能です。 PDMSブロックにはシリコンチューブで接続されており、マイクロポンプにより流速<2μl/分で液体を循環させます。   

SEM/EDS/EPMA
TOF-SIMS
       


  
  Spin Coater
成膜スピンコーター

フォトレジスト薄膜、コーティングを正確かつ均一に成膜を行うコンパクトスピンコーター
最大50ステップのプロセス設定ができ、50プログラム保存できま
す。低速度で塗布、高速でコーティングを均質化します。  

型番: SPIN-1200T-AB
構成: 本体、チャック x 2個、真空ポンプ
価格: ¥1,250,000
       
操作  タッチパネル設定 
基板サイズ 10mm~4インチウェハ
回転速度 300 - 10,000 rpm (無負荷)
モーター サーボモーター
加速度 可変(0.1 sec/step) Max 3,000/ rpm/sec
プログラム  50ステップ, 50プログラム保存
ボールサイズ 8インチ(PP製)
チャック chuck1: 8mmチャック (10mm - 2インチサンプル)
chuck2: マルチチャック (3 - 4インチサンプル)
*特注チャック対応可(オプション)
チャック材質 Anodized Al, Acetal
真空ポンプ オイルレス真空ポンプ
寸法(mm)  230(W) x 340(D) x 280(H)
重量 20 kg
電源 110V 50/60Hz, 5A
       


3D Optical Microscope  
3D光学顕微鏡
型番:TS3010A
価格:¥670,000

新規、ユニークな3次元光学顕微鏡
ほとんどのオブジェクトは3次元構造を持っており、通常の顕微鏡を通してみることは3Dオブジェクトの2D投影となります。様々な試みは、アダプタ、カスタムメイドの治具、デジタル顕微鏡、特別に設計された光学素子を回転/傾斜、このような傾斜段階としてこれらの制限を克服する試みがなされてきました、というように、ほとんどが部分的にしか満足のいくものであるとアプリケーションが限られています。この3D光学顕微鏡は垂直ビューだけでなく、斜めビューの任意の角度で観察できるように設計されています。
  


光学システムは固定画像面に移動する対物レンズからの画像を提供します

対物レンズは、球面座標系における極性および方位角方向に沿って移動するように設計されています。所定の立体角範囲内の任意の角度で物体を見ることができるようにユーザーが独立してそれぞれの角度を制御することができます。
95mmの半径と30°X 360°の立体角を提供します
    
   大口径の光学系はテレセントリック歪みのない画像を提供します 
   
 Polar direction movement  Azimuthal direction movement
       

User freedom in changing viewing angles

観察者がその表面上の任意の点の視野角を選択できるように、左の図に示すように、球面の一部に移動することができ、対物レンズは、(左図の緑のような色付き)。
     
  Observers can perceive the 3D aspect of the object

左の図センター内の仮想イメージは、オブジェクトの垂直ビューを表します。すべての三次元特徴は焦点深度内にある場合はすべての奥行き情報が失われ、唯一の二次元特徴が残ります。円周上に8枚の画像(左図)は、上図の目的の位置に対応し、明らかに目的が何であるかを示しています。
       

   
  SMT/PCB
soldering and desoldering, rework


  Connector pin

     
  Sidewall of laser machined through hole   Reduced gear - tiny gears, shaft



Objectibe  Infinity plan achromatic 1X
Obserbation angle range Polar angle(tilt) 30°, Azimuthal angle(rotation) 360°
Angle drive Polar angle - motorized, Azimuthal angle - manual
Magnification 10X with 10X eyepiece
Working distance 83mm~95mm(vertical distance, from objective)
Centering error <~3mm
Illumination

Variable intensity ring light
(10 White LEDs, 0.6W, continuous PWM dimming)
Attached to moving objective lens

Power 3.7V Li-polymer battery(1800mAh)
Mini-USB connector
AC adapter: input 100~240V, output DC 5V 1A
Observation tube Siedentopf binocular
Interpupillary distance range: 52 to 75mm
Tube inclination angle 30°, 360°rotatable, ±5 diopter adjustable
eyepiece: WF10X plan 18mm, eye relief 21mm
Focusing adjustment Knob rotation tension adjustment
Focusing stroke: 50mm
Compatible with any microscope stands with Ø32 mounting post
Dimension(W x D x H)mm 220×248×356 or 153×282×356 (except focus arm)
Weight 4.8kg






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電子顕微鏡関連
TEMグリッド
カーボンフィルムTEMグリッド
表面機能化カーボン
 フィルムTEMグリッド

シリコン/窒化シリコン
 メンブレン
TEMグリッド
 
(Si, SiN, SiO)
窒化シリコンメンブレン
---TEMグリッド(SiN)

官能基化-窒化シリコン
__メンブレンTEMグリッド(SiN)
官能基化-酸化シリコン
  メンブレン
TEMグリッド(SiO)

Quantifoli -ホールカーボン
  TEMグリッド
X-RAY Windowグリッド
グラフェンTEMグリッド

AFM, SPM基板
HOPG
MICA

Au on MICA
MoS2(モリブデン単結晶)

FIB
関連
シリコンハーフグリッド
FIB/SEM Lift-Outグリッド

Graphene

グラフェン製品
ナノパウダー/溶液/蒸着フォイル/
酸化グラフェン/CVDグラフェン/
3Dグラフェン


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細胞イメージング
スライド


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包埋・グリッド染色カプセル



電顕関連装置
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UV Prep(UVOクリーナー)
WetCell II
Spin coater



その他電顕関連製品