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シリコン/窒化シリコン
 メンブレンTEMグリッド
 
(Si, SiN, SiO)
窒化シリコンメンブレン
---TEMグリッド(SiN)

官能基化-窒化シリコン
__メンブレンTEMグリッド(SiN)
官能基化-酸化シリコン
  メンブレン
TEMグリッド(SiO)

Quantifoli -ホールカーボン
  TEMグリッド
X-RAY Windowグリッド
グラフェンTEMグリッド

AFM, SPM基板
HOPG
MICA
Au on MICA
MoS2(モリブデン単結晶)

FIB関連
シリコンハーフグリッド
FIB/SEM Lift-Outグリッド

Graphene
グラフェン製品
ナノパウダー/溶液/蒸着フォイル/
酸化グラフェン/CVDグラフェン/
3Dグラフェン


Cell Imageing Slides
細胞イメージングスライド

その他電顕関連製品
UltraSMシリコンメンブレンとTEMウィンドウグリッドの特徴・利点のユニークな組み合わせを提供します


特 徴
ナノメートルという薄さ: UltraSM TEMウィンドウの特徴は厚さ5から15 nmのイメージングウィンドウということで、明らかに窒化シリコングリッドより薄く、バックグランドの寄与やより高いコントラスト画像における干渉を減らします。

プラズマクリーニングが可能:伝統的なカーボングリッドと異なり、UltraSM TEM ウィンドウで準備された試料は有機不純物を取り除き画質向上のために強度のプラズマクリーニングができます
色にじみが減少:商用で最も薄いアモルファスカーボンメンブレンと比較すると、5 nm 非穴開きUltraSM シリコンTEMウィンドウの色にじみは半分です。この劇的な違いはUltraSM シリコンTEMウィンドウの最も薄いメンブレンを通過する非弾性散乱した電子が半分に減少したことから生じています。その結果、色にじみが減少したことから画質が2倍改善することが可能となります。
均一性:Non-porous(非穴開き)UltraSM TEMウィンドウはカーボングリッドより一貫して薄く、視野による変動が減少しています。(注:穴開きUltra SMウィンドウに固有の結晶構造がありますが、バックグランドのないナノメートルスケールのきれいな微細孔があります)

シリコン成分:UltraSM TEMウィンドウのシリコン元素成分によってビーム電流が強いときやアニーリング温度が高いときの安定性が著しく増加しています。純シリコン成分によってバックグランド信号を最小化し、EDXEELSによる窒素やカーボンを含んだ試料の元素分析ができます。

孤立した多結晶:Porous(穴開き)UltraSM TEMウィンドウの多結晶性によってX線回折研究の標準校正が可能となります。孤立した結晶特性、すなわちシリコンの結晶格子がよく特徴付けられているため、高分解能距離計測において、便利で信頼性の高い距離計測を行うことができます。

親水性:非穴開き、穴開きのどちらのUltraSM TEMウィンドウの親水性は、プラズマあるいはUVオゾントリートメントによって調整できます。特に水溶性試料の場合、試料準備を容易にします。

Pure Silicon Membrane

15nm porous UltraSM
TEM Window
上の多層
カーボンナノチューブ



画像提供
Brain Mclntyer,
University of Rochester

Porous Silicon UltraSM® TEM Windows
微細孔シリコンメンブレン
- 10~50nmの微細孔
- バックグランドのないイメージ
- プラズマ洗浄可能


5nm non-porous UltraSM
TEM Window上の金ナノ粒子



画像提供
Brain Mclntyer,
University of Rochester
上の金ナノ粒子

Non-Porous Silicon UltraSM®
TEM Windows

シリコンメンブレン

- 5, 9, 15nm厚アモルファスシリコン
- 高解像度、高分可能イメージ

- プラズマ洗浄可能



High Quality other TEM Windows

Silicon Oxide TEM Windows
- 頑丈な20, 40nmu厚メンブレン
Silicon Nitride TEM Windows

- 低ストレス 5, 10, 20, 50nm厚メンブレン
スクウェアタイプ

25 x 25 um x 1 window
50 x 50 um x 9 windows

100 x 100 um x 1 window
100 x 100 um x 9 windows

250 x 250 um x 9 windows
500 x 500 um x 1 window
1000 x 1000 um x 1 window

スロットタイプ

100 x 1500 um x 2 slots

Custom TEM Windows
Custom TEM Windows
- Si, SiO, SiN特注メンブレンに対応
-多様な
Window配列に対応
-
多様なフレーム サイズと形状に対応

アプリケーションガイド

 

Amorphous Silicon

Porous Nanocrystalline

Silicon

Silicon
Oxide

Silicon Nitride

Standard Carbon

Ultrathin Carbon

アモルファス
(非結晶
)

シリコン膜

多孔ナノ結晶性

シリコン膜

二酸化
シリコン膜

窒化シリコン膜

標準カーボン膜

極薄カーボン膜

メンブレン厚

5, 9, 15nm

15, 30nm

20, 40nm

5, 10, 20, 50nm

20-50nm

5nm-10nm

画 質*1

優れている

 良い

 有効

 有効

 有効

 良い

プラズマ洗浄

不可

不可

物質解析

バックグランド

Siのみ

Siのみ

Si, O

Si, N

C, H

C, H

熱的安定性

~600

~1000

~1000

~1000

~400

~400

化学安定性

強塩は避ける

強塩は避ける

有効

優れている

有効

有効

高ビーム電流*2

優れている

優れている

有効 

有効 

優れている

優れている

コンタミネーションの可能性

なし

なし

なし

なし

カーボン

カーボン

ナノスケール
気孔

なし

あり

なし

なし

なし

なし

バックグランド

なし

ナノ結晶

なし

なし

なし

なし

*1 気孔の上にサンプルがある場合、多孔性のSIグリッドは干渉するバックグラウンドなしのサンプルイメージを可能にします。
5nm
非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。

*
2 ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより
2倍以上色にじみが減少します。粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。
SiO2 SiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。





100um厚フレーム
100umの薄いフレームによってダブルチルト
試料ホルダーで高角度画像を得ることができます
ウィンドウグリッドは高分解能画像用に対応してます



製品案内


シリコンメンブレンTEMグリッド
Non-Porous Silicon UltraSM® TEM Window Grid
シリコンメンブレンTEMグリッド

フレーム厚:100/200um, メンブレンタイプ:アモルファスシリコン

型 番

メンブレン厚

ウインドウサイズ

ウインドウ数

フレーム厚 グリッド径

数量

価格

US100-A05Q00

5nm

25 x 25um

1

100um 3mm

10

 55,000

US100-A05Q33A

5nm

100 x 100um

9

100um 3mm

10

 55,000

US100-A09Q33

9nm

100 x 100um

9

100um 3mm

10

 49,500

US100-A15Q33

15nm

100 x 100um

9

100um 3mm

10

 45,000

US200-A09Q33

9nm

100 x 100um

9

200um 3mm

10

 49,500

US200-A15Q33

15nm

100 x 100um

9

200um 3mm

10

 45,000


Non-Porous Silicon UltraSM® TEM Slot Window Grid
シリコンメンブレンスロットTEMグリッド

フレーム厚:100/200um, メンブレンタイプ:アモルファスシリコン

型 番

メンブレン厚

スロットサイズ

スロット数

フレーム厚 グリッド径

数量

価格

US100-A05L

5nm

50 x 1500um

2

100um 3mm

10

 55,000

US100-A09L

9nm

100 x 1500um

2

100um 3mm

10

 49,500

US100-A15L

15nm

100 x 1500um

2

100um 3mm

10

 44,000

US200-A05L

5nm

100 x 1500um

2

200um 3mm

10

 55,000

US200-A09L

9nm

100 x 1500um

2

200um 3mm

10

 49,500

US200-A15L

15nm

100 x 1500um

2

200um 3mm

10

 44,000


Porous Silicon UltraSM® TEM Window Grid
微細孔シリコンメンブレンTEMグリッド

フレーム厚:100um, メンブレンタイプ:多孔ナノ結晶シリコン
最大ポアサイズ10 ~ 60nm / 多孔率:5 ~ 15%

型 番

メンブレン厚

ウインドウサイズ

ウインドウ数

フレーム厚 グリッド径

数量

価格

US100-P30Q05

30nm

500 x 500um

1

100um 3mm

10

 55,000

US100-P30Q33

30nm

100 x 100um

9

100um 3mm

10

 55,000





窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

Silicon Nitride Membrane TEM Window Grid
窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

フレーム厚:100/200um, メンブレンタイプ:窒化シリコン


型 番

メンブレン厚

ウインドウサイズ

ウインドウ数

フレーム厚

グリッド径

数量

価格

SN100-A05Q00 5 nm
25 x 25um 1 100um 3 mm 10 55,000
SN100-A05Q33A 5 nm
50 x 50um 9 100um 3 mm 10 55,000
SN100-A10Q00 10 nm
25 x 25um 1 100um 3 mm 10 49,500
SN100-A10Q33  10 nm  100 x 100um 9 100um  3 mm 10  49,500
SN100-A10Q33B 10 nm
250 x 250um 9 100um 3 mm 10 49,500
SN100-A15Q020 15 nm 200 x 200um 1 100um 3.6 mm 10 44,000
SN100-A20Q05

20 nm

500 x 500um

1

100um

3 mm

10

 44,000

SN100-A20Q33

20 nm

100 x 100um

9

100um

3 mm

10

 44,000

SN200-A20Q05

20 nm

500 x 500um

1

200um

3 mm

10

 44,000

SN200-A20Q33

20 nm

100 x 100um

9

200um

3 mm

10

 44,000

SN200-A20Q025

20 nm

250 x 250um

1

200um

3 mm

10

 44,000

SN100-A50Q10

50 nm

1000 x 1000um

1

100um

3 mm

10

 33,000

SN100-A50Q05

50 nm

500 x 500um

1

100um

3 mm

10

 33,000

SN100-A50Q01

50 nm

100 x 100um

1

100um

3 mm

10

 33,000

SN100-A50Q33

50 nm

100 x 100um

9

100um

3 mm

10

 33,000

SN200-A50Q05

50 nm

500 x 500um

1

200um

3 mm

10

 33,000

SN200-A50Q01

50 nm

100 x 100um

1

200um

3 mm

10

 33,000

SN200-A50Q33

50 nm

100 x 100um

9

200um

3 mm

10

 33,000



Silicon Nitride membrane TEM Slot Grid
窒化シリコンメンブレンスロットTEMグリッド

フレーム厚:200/100um, メンブレンタイプ:窒化シリコン

型 番

メンブレン厚

スロットサイズ

スロット数

フレーム厚

グリッド径

数量

価格

SN200-A50L

50nm

100 x 1500um

2

200um

3mm

10

 33,000

SN200-A20L

20nm

100 x 1500um

2

200um

3mm

10

 44,000

SN100-A20L

20nm

100 x 1500um

2

100um

3mm

10

 44,000



Microporous Silicon Nitride membrane TEM Window Grid
マイクロポア窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

フレーム厚:100um, メンブレンタイプ:微細孔(2um)窒化シリコン

●2umポアが20または50nm厚窒化シリコンメンブレンに形成(2umポア- 1:1ピッチ)
さまざまな薄いフィルムを浮遊するのに微細孔メンブレングリッドを使用
例:グラフェン)

高傾斜断層撮影(トモグラフィー)と同様にCryoEM使用
●70度の角度では100umの薄くて斜角をつけられたシリコンフレームでウィンドウ
の中心の中でどんな回転配向からも~
50 x 50ミクロンの領域を使用できます

型 番

メンブレン厚

ウィンドウサイズ

ウィンドウ数

フレーム厚

グリッド径

数量

価格

SN100-A20MP2Q05

20nm

500 x 500um

1

100um

3mm

10

 55,000

SN100-A50MP2Q05

50nm

500 x 500um

1

100um

3mm

10

 55,000



Nanoporous Silicon Nitride membrane TEM Window Grid
NEW
ナノポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド


フレーム厚:100um, メンブレンタイプ:ナノポーラス窒化シリコン

厚さ20nmのナノ多孔質窒化
シリコンナノ細孔イメージ
(STEM)

バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。新しいナノ
多孔性窒化グリッドは、平均ポアサイズ
30 nmにまたがる粒子の画像化を
可能にします

ナノポーラスアモルファスフィルム
寸法:100um厚フレーム、500×500umシングルウィンドウ
•厚さ20nmの低ストレス窒化シリコンメンブレン
平均細孔径:30nm、気孔率:約25

型 番

メンブレン厚

ウィンドウサイズ

ウィンドウ数

フレーム厚

グリッド径

数量

価格

SN100-P20Q05

20nm

500 x 500um

1

100um

3mm

10

 55,000







酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

Silicon Oxide Membrane TEM Window Grid
酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

フレーム厚:200um, メンブレンタイプ:酸化シリコン

型 番

メンブレン厚

ウインドウサイズ

ウインドウ数

フレーム厚

グリッド径

数量

価格

SO100-A20Q33A

20nm

50 x 50um

9

100um

3mm

10

 49,500

SO100-A40Q33

40nm

100 x 100um

9

100um

3mm

10

 44,000



Silicon Oxide Membrane TEM Slot Grid
酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

フレーム厚:200um, メンブレンタイプ:酸化シリコン

型 番

メンブレン厚

スロットサイズ

スロット数

フレーム厚

グリッド径

数量

価格

SO200-A20L

20nm

100 x 1500um

2

100um

3mm

10

 49,500

SO200-A40L

40nm

100 x 1500um

2

100um

3mm

10

 44,000



New Hydrophillic surface
SiO G-FLAT Membrane TEM Window Grid
酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

フレーム厚:100um, メンブレンタイプ:親水性酸化シリコンメンブレン

この酸化シリコン膜は、はガラスのような親水性表面を有するマイクロスケールの
ガラスカバースリップ

生物学的イメージングに適しています


非ポーラスフィルム
寸法:100um厚フレーム、1000×1000umウィンドウ
しわの無い75nm酸化シリコンメンブレン

型 番

メンブレン厚

ウィンドウサイズ

ウィンドウ数

フレーム厚

グリッド径

数量

価格

SO100-GFLAT100

100nm

1000 x 1000um

1

100um

3mm

10

 55,000









TEM Window grid アプリケーション
Nano Gold on 5nm
menmbrane TEM grid
Quantum Dots on 5nm
membran TEM grid
CeO2 Nanoparticles
---------- ----------
10 nm gold nanoparticle
on a pure silicon5 nm thick
UltraSN TEM window.
Commercial Quantum dots
on a pure 5 nm thick UltraSN
TEM window.
CeO2 nanoparticles are suspended on
amorphous 5nm UltraSM pure silicon
TEM windows. The grid was plasma
cleaned in O2/Argon prior to imaging.


MWCNT on Nanoporous membrane grid 5nm Nanoporous Silicon vs. Carbon film grid
A multiwalled crabon nanotube (MWCNT) suspended
on a nanoporous 15nm UltraSM TEM Window.
Lead Selenid nanoparticles on 5nm non-porous
UltraSM TEM Window (Left) and conventional
carbon film (right)..


Human Neutrophil Activation - TEM Human Neutrophil Activation - SEM
-----------
Since SEM image preparation using Pure Silicon TEM
Windows did not require gold sputtering , it was straight
forward to image the same samples in the TEM. These
are higher resolution images of the development of the
cell’s leading edge or lamellipodium. Since the pure silicon
window was just 15 nm thick, it was not necessary to
stain the cells with an electron dense material. Additionally,
the optical transparency of these silicon films enables
straight forward fluorescence imaging on an optical
microscope.
Pure silicon TEM windows are also excellent substrates for scanning electron
microscopy (SEM). Due to the conductivity of the pure silicon film, there is
better charge dissipation than with oxide or nitride films eliminating the need
for gold sputtering. Both of these images required no sample prep beyond
drying.
Human neutrophils were placed on IL-8 coated pure silicon TEM
window grids (15 nm thick) and allowed to activate. Cells were fixed with
glutaraldehyde, then dried with increasing concentrations of ethanol.
-
-



Atmospheric Pressure STEM
Nano Letters (N. de Jonge, W. C. Bigelow, and G. M. Veith, Nano Lett., Articles ASAP, Feb. 10, 2010) illustrates
how relatively simple laboratory materials can be used for significant in situ STEM (scanning transmission electron
microscope) experiments. In this paper, the authors demonstrate the imaging of Au nanoparticles on a thin TiO2
surface in a 0.36 mm thick atmospheric pressure flow cell with a resolution of ~0.4 nm. The flow cell was constructed
with two SiN grids with custom geometry, separated with simple tubing spacers and sealed with vacuum epoxy. Thin
input and output tubing was fed through the specimen rod to the exterior of the STEM for source gas connections.
High resolution imaging through the atmospheric pressure chamber was achieved by focusing the STEM on nano
particles on the entrance window (relative to the electron beam), and imaging elastically scattered electrons with an
ADF (annular dark-field) detector.



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