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商品コード:
SMPSI

Si シリコンメンブレンTEMグリッド

関連カテゴリ:
電子顕微鏡関連 > TEMグリッド(SiN, Si, SiOメンブレン)
高分可能イメージングや解析に理想的な
シリコンメンブレンTEMウィンドウグリッド

シリコンメンブレンTEMグリッドについて

● 5 nmメンブレン-高分解能イメージング
● 最も薄いアモルファスカーボンよりも色にじみが少ない
● ナノ微細孔上にナノ物質を支持します
● シリコン多結晶により大きさ測定や回折像取得のために内部校正ができます



特  徴
■ ナノメートルメンブレン:シリコンメンブレンの特徴は厚さ数ナノから数十ナノメートルのイメージングウィンドということで、バックグランドの寄与、より高いコントラスト画像における干渉を減らします
■ プラズマクリーニングが可能:有機不純物を取り除き画質向上のためにプラズマクリーニング可能
■ 均一性:カーボングリッドより一貫して薄く、視野による変動が減少しています
■ 色にじみが減少:商用で最も薄いアモルファスカーボンフイルムと比較すると、5 nm シリコンメンブレンTEMグリッドの色にじみは半分です
■ ナノポーラスメンブレン:メンブレンには直径10から60 nmの穴のあいた微細孔フィルムとして、これらの穴によって画像にバックグランド干渉のないナノスケール物質の簡単で安定的な支持を可能とします
■ 親水性:プラズマ或いはオゾン処理によって、親水性の調整が可能です。水溶性試料の場合、試料準備を容易にします



アプリケーションガイド

  アモルファス
シリコン
多孔ナノ結晶
シリコン
窒化
シリコン
酸化
シリコン
標準
カーボン
薄膜
カーボン
メンブレン 5, 9, 15nm 30nm 5,10, 20, 50nm 20, 40, 100nm 20-50nm 5-10nm
イメージ*1 優れている 良い 有効 有効 有効 良い
プラズマ洗浄 不可 不可
物質解析
バックグラウンド
Si Si Si, N Si, O C, H C, H
熱安定性 ~600℃ ~600℃ ~1000℃ ~1000℃ ~400℃ ~400℃
化学安定性 強酸は避ける 強酸は避ける 優れている 有効 有効 有効
高ビーム電流*2 優れている 優れている 有効 有効 優れている 優れている
コンタミネーション
の可能性
カーボン カーボン
ナノスケールポア
マイクロスケールポア
有(ナノポア)
有(ナノ, マイクロポア)*3
バックグラウンド ナノ結晶
*1 気孔の上にサンプルがある場合、多孔性のSIグリッドは干渉するバックグラウンドなしのサンプルイメージを可能にします。
5nm非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。
*2 ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。純粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。SiO2 とSiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。
*3 一部のSiN膜製品はナノおよびマイクロポアがあります。


メンブレン強度
1 atm(気圧) = 14.7 PSI
シリコン膜厚 5 nm 9 nm 15nm 30 nm 35 nm
9 windows   3.90±0.71 11.57±0.26    
9 small windows 2.30±0.29        
2 slots 2.60±0.99 2.53±0.40 14.73±2.61    
Single 25um 35.33±0.78        
Nanoporous 9 windows       16.47±0.95  
Nanoporous Single 500um       3.33±0.17  
Single Cristal 9 windows         34.03±1.07


 

シリコンメンブレンTEMウィンドウグリッド

Si(Silicon) membrane TEM window grids
シリコンメンブレン:5, 9, 15, 30, 35 nm






メンブレン: 5~15nm アモルファスシリコン
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
US100-A05Q00 5nm 25 x 25um 1 100um 10/pk 55,000
APT100-Q00 膜無 25 x 25um 1 100um 10/pk 33,000
US100-A05Q33A 5nm 50 x 50um(8)
50 x 100um(1)
9 100um 10/pk 55,000
US100-A05L 5nm 50 x 1500um 2 100um 10/pk 55,000
US100-A09Q33 9nm 100 x 100um(8)
100 x 350um(1)
9 100um 10/pk 49,500
US100-A09L 9nm 100 x 1500um 2 100um 10/pk 49,500
US100-A15Q33 15nm 100 x 100um(8)
100 x 350um(1)
9 100um 10/pk 45,000
US100-A15L 15nm 100 x 1500um 2 100um 10/pk 45,000


 

単結晶シリコンメンブレンTEMグリッド

Single crystal Si(Silicon) membrane TEM window grid
新しく開発された
配向性<1-0-0>の35nm単結晶シリコンメンブレングリッドは単結晶の均一な
背景を必要とする回折研究や他のアプリケーションに適しています


メンブレン:単結晶シリコン

メンブレン厚: 35 um
配向性: <1-0-0>

型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
US100-C35Q33 35nm 100 x100um (8)
100 x 350um (1)
9 100um 10/pk 58,000


 

ナノポーラスシリコンメンブレンTEMグリッド

Nanoporous Si(Silicon) membrane TEM window grid
P15(15nm porous Si膜)からP30(30nm porous Si膜)に切り替えることにより、NANOPOROUS TEMウインドウを著しく多孔性にしました。 細孔サイズは、直径が10〜60ナノメートルの範囲の細孔を含むように増加しています。 さらに、気孔率は5%から15%に増加しました。

メンブレン:多結晶シリコン
ナノポアサイズ:10-60 nm
気孔率:15%
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
US100-P30Q05 30nm 500 x 500um 1 100um 10/pk 55,000
US100-P30Q33 30nm 100 x 100um(8)
100 x 350um(1)
9 100um 10/pk 55,000