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ナノ・マイクロポーラス SiN TEMグリッド
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商品コード:
NASIN

ナノ・マイクロポーラス SiN TEMグリッド

関連カテゴリ:
電子顕微鏡関連 > TEMグリッド(ナノ・マイクロポア膜)
ナノ・マイクロ粒子解析、次世代DNAシーケンシング技術に適した、ナノ & マイクロポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド







 

シングルナノポアSiNメンブレンTEMグリッド

シングルナノポア窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
Single Nanopore SiN Membrane TEM Grids




シングルナノポア窒化シリコン膜は、バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。ナノポアにまたがる粒子の画像化を可能にします。TEMアプリケーションだけでなく、ナノポア窒化シリコン膜は、次世代DNAシーケンシング(NGS)技術の開発、アプリケーションとして用いられキャリブレーションなし、増幅なし、低用量使用、長いシーケンス可読性、単一分子のハイスループット検出などの多くの利点があります。
 
型番 SiN膜厚
(nm)
ウィンドウ
(mm)
ポアサイズ
(nm)
フレーム
(mm)
フレーム厚
(um)
数量 価格
SNT-NP15-005 15 0.05x0.05 20~200nm (+/-5nm)
ポアサイズ選択可
3x3mm
(TEM grid)
200 5/pk 85,000
SNT-NP20-001 20 0.01x0.01 5/pk 85,000
SNT-NP30-025 30 0.25x0.25 5/pk 85,000
SNT-NP50-01 50 0.1x0.1 5/pk 85,000
SNT-NP100-025 100 0.25 x 0.25 5/pk 85,000
SNT-NP100-05 100 0.5x0.5 5/pk 85,000
SNT-NP200-01 200 0.1x0.1 5/pk 85,000





 

ナノポーラスSiNメンブレンTEMグリッド

ナノポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
Nanoporous SiN Membrane TEM Grids 





バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。  
ナノ多孔性SiNメンブレンは、平均ポア径30 nmにまたがる粒子の画像化を可能にします
メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン(アモルファス) 

●20nm Low- stress SiNメンブレン 
●平均細孔径: 30nm
●多孔率: 約25%

 
型番 メンブレン厚 ポア径 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN100-P20Q33 20nm 30nm 100 x 100um 9 100um 10/pk 59,000
SN100-P20Q05 500 x 500um 1 10/pk N/A





 

マイクロポーラスSiNメンブレンTEMグリッド

マイクロポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
Microporous SiN Membrane TEM Gridss





●2~10umポアが20, 30, 50, 200nm窒化シリコンメンブレンに形成
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察 (例:グラフェン)
●高傾斜断層撮影(トモグラフィー)と同様にCryoEMで使用
●70°の角度では100umの薄くて斜角をつけられたシリコンフレームでウィンドウの
 中心の中でどんな回転配向からも~50 x 50ミクロンの領域を使用できます

メンブレン: 窒化シリコン(アモルファス)
ポア径: 2, 2.8, 5, 10um
ポア間隔: 2umまたは10um(ポア中心-ポア中心間隔)

 
型番 メンブレン厚 ポア径 ポア数 ポア間隔 ウィンドウ フレーム厚 数量 価格
SN100-A20MP2Q05 20nm 2um 6400 2um 500 x 500um 100um 10/pk 59,000
SN100-A50MP2Q05 50nm 2um 6400 10/pk 59,000
SN200-A30MP-2.8 30nm 2.8um 2025 10um 200um 10/pk 65,000
SN200-A50MP-2.0 50nm 2um 2025 10/pk 65,000
SN200-A50MP-10 50nm 10um 1024 10/pk 65,000
SN200-A200-MP-5.0 200nm 5um 2401 10/pk 65,000