酸化シリコンメンブレンTEMグリッドについて
特 徴
■プラズマクリーニング:カーボングリッドと異なり、有機不純物を取り除き画質向上のために
プラズマクリーニング可能
■均一性の向上:フィールド間のばらつきの低減
■ 耐熱温度> 1000℃:高温で動的プロセスが観察される環境TEMでの使用をサポート
■過酷蒸着および化学的条件に耐える:イメージング解像度および機械的強度の理想的なバランスを提供
■化学量論的二酸化ケイ素を取り入れ:EDX技術によって窒素を分析する能力を提供する
アプリケーションガイド
アモルファス シリコン |
多孔ナノ結晶 シリコン |
窒化 シリコン |
酸化 シリコン |
標準 カーボン |
薄膜 カーボン |
|
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メンブレン | 5, 9, 15nm | 30nm | 5,10, 20, 50nm | 20, 40, 100nm | 20-50nm | 5-10nm |
イメージ*1 | 優れている | 良い | 有効 | 有効 | 有効 | 良い |
プラズマ洗浄 | 可 | 可 | 可 | 可 | 不可 | 不可 |
物質解析 バックグラウンド |
Si | Si | Si, N | Si, O | C, H | C, H |
熱安定性 | ~600℃ | ~600℃ | ~1000℃ | ~1000℃ | ~400℃ | ~400℃ |
化学安定性 | 強酸は避ける | 強酸は避ける | 優れている | 有効 | 有効 | 有効 |
高ビーム電流*2 | 優れている | 優れている | 有効 | 有効 | 優れている | 優れている |
コンタミネーション の可能性 |
無 | 無 | 無 | 無 | カーボン | カーボン |
ナノスケールポア マイクロスケールポア |
無 | 有(ナノポア) | 無 有(ナノ, マイクロポア)*3 |
無 | 無 | 無 |
バックグラウンド | 無 | ナノ結晶 | 無 | 無 | 無 | 無 |
5nm非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。
*2 ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。純粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。SiO2 とSiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。
*3 一部のSiN膜製品はナノおよびマイクロポアがあります。
メンブレン強度
1 atm(気圧) = 14.7 PSI
酸化シリコン膜厚 | 20 nm | 40nm | 100 nm |
---|---|---|---|
9 windows | 11.33±0.37 | 12.73±0.68 | |
G-FLAT Single 1000um | 3.00±0.17 |
酸化シリコンメンブレンTEMウィンドウグリッド
SiO(Silicon Oxide) membrane TEM window grdis
窒化シリコンメンブレン:20, 40 nm
20, 40nm 酸化シリコン(アモルファス)メンブレン
型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|---|---|
SO100H-A20Q33A | 20nm | 50 x 50um(8) 50 x 100um(1) |
9 | 100um | 10/pk | ¥98,000 |
SO200-A20L | 20nm | 100 x 1500um | 2 | 200um | 10/pk | ¥98,000 |
SO100H-A40Q33 | 40nm | 100 x 100um(8) 100 x 350um(1) |
9 | 100um | 10/pk | ¥98,000 |
SO200-A40L | 40nm | 100 x 1500um | 2 | 200um | 10/pk | ¥98,000 |
APT100-Q00 | 膜無 | 25 x 25um | 1 | 100um | 10/pk | ¥56,000 |
APT100-Q01 | 膜無 | 100 x 100um | 1 | 100um | 10/pk | ¥56,000 |
APT100-Q05 | 膜無 | 500 x 500um | 1 | 100um | 10/pk | ¥56,000 |
G-FLAT酸化シリコンメンブレンTEMウィンドウグリッド
G-FLAT SiO(Silicon Dioxide) membrane TEM window grdis
独自のしわのないガラスのようなG-FLAT™酸化シリコンメンブレンは、窒素を含まないバックグラウンドを
必要とする光相関とX線顕微鏡、分析に適しています。
GFLAT酸化シリコンメンブレン
型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|---|---|
SO100-GFLAT100 | 100nm | 1000 x 1000um | 1 | 100um | 10/pk | ¥100,000 |
マイクロポーラス酸化シリコンメンブレンTEMグリッド
●2umポアが50nm酸化シリコンメンブレンに形成(2umポア- 1:1ピッチ)
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察
●トモグラフィーと同様にCryo EMで使用
メンブレン: 50nm酸化シリコン
ポア径: 2um
ポア間隔: 2um(ポア中心-ポア中心間隔)
ポア数: 6,400
型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|---|---|
SO200-A50MP2Q05 | 50nm | 500 x 500um | 1 | 200um | 10/pk | ¥150,000 |