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SiO 酸化シリコンメンブレンTEMグリッド
商品コード:
SMSIO

SiO 酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

関連カテゴリ:
電子顕微鏡関連 > TEMグリッド(SiN, Si, SiOメンブレン)
化学量論的な酸化シリコンを取り入れています
EDXによって窒素を分析する機能を提供

酸化シリコンメンブレンTEMグリッドについて

特  徴
プラズマクリーニング:カーボングリッドと異なり、有機不純物を取り除き画質向上のために
プラズマクリーニング可能

均一性の向上:フィールド間のばらつきの低減
■ 耐熱温度> 1000℃:高温で動的プロセスが観察される環境TEMでの使用をサポート
過酷蒸着および化学的条件に耐える:イメージング解像度および機械的強度の理想的なバランスを提供
化学量論的二酸化ケイ素を取り入れ:EDX技術によって窒素を分析する能力を提供する






アプリケーションガイド

  アモルファス
シリコン
多孔ナノ結晶
シリコン
窒化
シリコン
酸化
シリコン
標準
カーボン
薄膜
カーボン
メンブレン 5, 9, 15nm 30nm 5,10, 20, 50nm 20, 40, 100nm 20-50nm 5-10nm
イメージ*1 優れている 良い 有効 有効 有効 良い
プラズマ洗浄 不可 不可
物質解析
バックグラウンド
Si Si Si, N Si, O C, H C, H
熱安定性 ~600℃ ~600℃ ~1000℃ ~1000℃ ~400℃ ~400℃
化学安定性 強酸は避ける 強酸は避ける 優れている 有効 有効 有効
高ビーム電流*2 優れている 優れている 有効 有効 優れている 優れている
コンタミネーション
の可能性
カーボン カーボン
ナノスケールポア
マイクロスケールポア
有(ナノポア)
有(ナノ, マイクロポア)*3
バックグラウンド ナノ結晶
*1 気孔の上にサンプルがある場合、多孔性のSIグリッドは干渉するバックグラウンドなしのサンプルイメージを可能にします。
5nm非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。
*2 ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。純粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。SiO2 とSiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。
*3 一部のSiN膜製品はナノおよびマイクロポアがあります。


メンブレン強度
1 atm(気圧) = 14.7 PSI
酸化シリコン膜厚 20 nm 40nm 100 nm
9 windows 11.33±0.37 12.73±0.68  
G-FLAT Single 1000um     3.00±0.17

酸化シリコンメンブレンTEMウィンドウグリッド

SiO(Silicon Oxide) membrane TEM window grdis
窒化シリコン
メンブレン:20, 40 nm 






20, 40nm 酸化シリコン(アモルファス)メンブレン

 

型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SO100H-A20Q33A 20nm 50 x 50um(8)
50 x 100um(1)
9 100um 10/pk ¥98,000
SO200-A20L 20nm 100 x 1500um 2 200um 10/pk ¥98,000
SO100H-A40Q33 40nm 100 x 100um(8)
100 x 350um(1)
9 100um 10/pk ¥98,000
SO200-A40L 40nm 100 x 1500um 2 200um 10/pk ¥98,000
APT100-Q00 膜無 25 x 25um 1 100um 10/pk ¥56,000
APT100-Q01 膜無 100 x 100um 1 100um 10/pk ¥56,000
APT100-Q05 膜無 500 x 500um 1 100um 10/pk ¥56,000



 

G-FLAT酸化シリコンメンブレンTEMウィンドウグリッド

G-FLAT SiO(Silicon Dioxide) membrane TEM window grdis

​独自のしわのないガラスのようなG-FLAT™酸化シリコンメンブレンは、窒素を含まないバックグラウンドを
必要とする光相関とX線顕微鏡、分析に適しています。


GFLAT酸化シリコンメンブレン

 

型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SO100-GFLAT100 100nm 1000 x 1000um 1 100um 10/pk ¥100,000




 

マイクロポーラス酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

2um Microporous SiO membrane TEM window grid


●2umポアが50nm酸化シリコンメンブレンに形成(2umポア- 1:1ピッチ)
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察
●トモグラフィーと同様にCryo EMで使用
メンブレン: 50nm酸化シリコン
ポア径: 2um
ポア間隔: 2um(ポア中心-ポア中心間隔)
ポア数: 6,400
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SO200-A50MP2Q05 50nm 500 x 500um 1 200um 10/pk ¥150,000