会社概要
シリコンメンブレンTEMグリッドについて
● 5 nmメンブレン-高分解能イメージング
● 最も薄いアモルファスカーボンよりも色にじみが少ない
● ナノ微細孔上にナノ物質を支持します
● シリコン多結晶により大きさ測定や回折像取得のために内部校正ができます
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特 徴
■ ナノメートルメンブレン:シリコンメンブレンの特徴は厚さ数ナノから数十ナノメートルのイメージングウィンドということで、バックグランドの寄与、より高いコントラスト画像における干渉を減らします
■ プラズマクリーニングが可能:有機不純物を取り除き画質向上のためにプラズマクリーニング可能
■ 均一性:カーボングリッドより一貫して薄く、視野による変動が減少しています
■ 色にじみが減少:商用で最も薄いアモルファスカーボンフイルムと比較すると、5 nm シリコンメンブレンTEMグリッドの色にじみは半分です
■ ナノポーラスメンブレン:メンブレンには直径10から60 nmの穴のあいた微細孔フィルムとして、これらの穴によって画像にバックグランド干渉のないナノスケール物質の簡単で安定的な支持を可能とします
■ 親水性:プラズマ或いはオゾン処理によって、親水性の調整が可能です。水溶性試料の場合、試料準備を容易にします
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アプリケーションガイド
| アモルファス シリコン |
多孔ナノ結晶 シリコン |
窒化 シリコン |
酸化 シリコン |
標準 カーボン |
薄膜 カーボン |
|
|---|---|---|---|---|---|---|
| メンブレン | 5, 9, 15nm | 30nm | 5,10, 20, 50nm | 20, 40, 100nm | 20-50nm | 5-10nm |
| イメージ*1 | 優れている | 良い | 有効 | 有効 | 有効 | 良い |
| プラズマ洗浄 | 可 | 可 | 可 | 可 | 不可 | 不可 |
| 物質解析 バックグラウンド |
Si | Si | Si, N | Si, O | C, H | C, H |
| 熱安定性 | ～600℃ | ～600℃ | ～1000℃ | ～1000℃ | ～400℃ | ～400℃ |
| 化学安定性 | 強酸は避ける | 強酸は避ける | 優れている | 有効 | 有効 | 有効 |
| 高ビーム電流*2 | 優れている | 優れている | 有効 | 有効 | 優れている | 優れている |
| コンタミネーション の可能性 |
無 | 無 | 無 | 無 | カーボン | カーボン |
| ナノスケールポア マイクロスケールポア |
無 | 有(ナノポア) | 無 有(ナノ, マイクロポア)*3 |
無 | 無 | 無 |
| バックグラウンド | 無 | ナノ結晶 | 無 | 無 | 無 | 無 |
5nm非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。
*2 ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。純粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。SiO2 とSiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。
*3 一部のSiN膜製品はナノおよびマイクロポアがあります。
メンブレン強度
1 atm(気圧) = 14.7 PSI
| シリコン膜厚 | 5 nm | 9 nm | 15nm | 30 nm | 35 nm |
|---|---|---|---|---|---|
| 9 windows | 3.90±0.71 | 11.57±0.26 | |||
| 9 small windows | 2.30±0.29 | ||||
| 2 slots | 2.60±0.99 | 2.53±0.40 | 14.73±2.61 | ||
| Single 25um | 35.33±0.78 | ||||
| Nanoporous 9 windows | 16.47±0.95 | ||||
| Nanoporous Single 500um | 3.33±0.17 | ||||
| Single Cristal 9 windows | 34.03±1.07 |
シリコンメンブレンTEMウィンドウグリッド
Si(Silicon) membrane TEM window grids
シリコンメンブレン:5, 9, 15, 30, 35 nm
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メンブレン: 5～15nm アモルファスシリコン
シリコンメンブレン:5, 9, 15, 30, 35 nm
メンブレン: 5～15nm アモルファスシリコン
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| US100-A05Q00 | 5nm | 25 x 25um | 1 | 100um | 10/pk | ¥106,000 |
| US100-A05Q33A | 5nm | 50 x 50um(8) 50 x 100um(1) |
9 | 100um | 10/pk | ¥106,000 |
| US100-A05L | 5nm | 50 x 1500um | 2 | 100um | 10/pk | ¥106,000 |
| US100-A09Q33 | 9nm | 100 x 100um(8) 100 x 350um(1) |
9 | 100um | 10/pk | ¥106,000 |
| US100-A09L | 9nm | 100 x 1500um | 2 | 100um | 10/pk | ¥106,000 |
| US100-A15Q33 | 15nm | 100 x 100um(8) 100 x 350um(1) |
9 | 100um | 10/pk | ¥106,000 |
| US100-A15L | 15nm | 100 x 1500um | 2 | 100um | 10/pk | ¥106,000 |
| APT100-Q00 | 膜無 | 25 x 25um | 1 | 100um | 10/pk | ¥56,000 |
| APT100-Q01 | 膜無 | 100 x 100um | 1 | 100um | 10/pk | ¥56,000 |
| APT100-Q05 | 膜無 | 500 x 500um | 1 | 100um | 10/pk | ¥56,000 |
単結晶シリコンメンブレンTEMグリッド
Single crystal Si(Silicon) membrane TEM window grid
新しく開発された配向性<1-0-0>の25nm単結晶シリコンメンブレングリッドは単結晶の均一な
背景を必要とする回折研究や他のアプリケーションに適しています
メンブレン:単結晶シリコン
メンブレン厚: 25 um
配向性: <1-0-0>
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| US100H-C25Q33A | 25nm | 50 x50um (8) 50 x 100um (1) |
9 | 100um | 10/pk | ¥107,000 |
ナノポーラスシリコンメンブレンTEMグリッド
Nanoporous Si(Silicon) membrane TEM window grid
P15(15nm porous Si膜)からP30(30nm porous Si膜)に切り替えることにより、NANOPOROUS TEMウインドウを著しく多孔性にしました。 細孔サイズは、直径が10〜60ナノメートルの範囲の細孔を含むように増加しています。 さらに、気孔率は5%から15%に増加しました。
メンブレン:多結晶シリコン
ナノポアサイズ:10-60 nm
気孔率:15%
P15(15nm porous Si膜)からP30(30nm porous Si膜)に切り替えることにより、NANOPOROUS TEMウインドウを著しく多孔性にしました。 細孔サイズは、直径が10〜60ナノメートルの範囲の細孔を含むように増加しています。 さらに、気孔率は5%から15%に増加しました。
メンブレン:多結晶シリコン
ナノポアサイズ:10-60 nm
気孔率:15%
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| US100-P30Q05 | 30nm | 500 x 500um | 1 | 100um | 10/pk |
