100nmゴールドコーティング シリコンウェハ
金 100nm コーティング シリコンウェハ
SEM、AFMおよび他の走査型プローブ顕微鏡、細胞培養および反射測定から、ナノ用途のための高品質金被覆シリコン基板の多くの用途があります。金コーティングが剥がれることなくこれらの基材をどのくらいの高温下での使用につきましては、一般的に約150℃と考えられ、250℃までは安定している可能性があります。温度が高すぎると、金が表面から剥がれ始める可能性があります。
仕 様
ウェハサイズ: 100mm (4インチ)
ウェハ厚: 約525 um
配向性: <100>
金蒸着厚: 100nm
クロム接着層: 10nm
表面粗さ: 約2nm
型番 | 品名 | 金膜厚 | サイズ | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|---|
4176GSW | 金コーティング シリコンウェハ | 100nm | 4" (100mm) | 1 | ¥150,000 |

50nmゴールドコーティング シリコンウェハ
Gold 50nm Coated 2"(50mm) & 4 "(100mm) Silicon Wafer
金 50nm コーティング シリコンウェハ
SEM、AFMおよび他の走査型プローブ顕微鏡、細胞培養および反射測定から、ナノ用途のための高品質金被覆シリコン基板の多くの用途があります。金コーティングが剥がれることなくこれらの基材をどのくらいの高温下での使用につきましては、一般的に約150℃と考えられています。温度が高すぎると、金が表面から剥がれ始める可能性があります。
仕 様
ウェハサイズ: 50mm(2インチ), 100mm (4インチ)
ウェハ厚: 2インチ: 254〜301μm, 4インチ: 460〜530μm
配向性: <111>
金蒸着厚: 50nm (±5nm)
クロム接着層: 5nm
型番 | 品名 | 金膜厚 | サイズ | 数量 | 価格 |
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4177GSW | 金コーティング シリコンウェハ | 50nm | 2" (50mm) | 1 | ¥85,000 |
4178GSW | 4" (100mm) | 1 | ¥150,000 |