SiC結晶基板
炭化ケイ素(SiC)結晶基板
特性 | 4H-SiC 単結晶 | 6H-SiC 単結晶 |
---|---|---|
格子定数(Å) | a=3.076 c=10.053 |
a=3.073 c=15.117 |
スタッキング | ABCB | ABCACB |
密度 | 3.21 | 3.21 |
モース硬度 | ~9.2 | ~9.2 |
熱膨張係数(CTE) (/K) | 4-5 x 10-6 | 4-5 x 10-6 |
屈折率@750nm | no = 2.61 ne = 2.26 |
no = 2.60 ne = 2.65 |
誘電率 | c ~ 9.66 | c ~ 9.66 |
ドーピングタイプ | N-type or Semi-insulation | N-type or semi-insulation |
熱伝導率(W/cm K @ 298K) (Nタイプ, 0.02 ohm-cm) |
a~4.2 c~3.7 |
|
熱伝導率(W/cm K @ 298K) (semi-insulationタイプ) |
a~4.9 c~3.9 |
a~4.6 c~3.2 |
バンドギャップ(eV) | 3.23 | 3.02 |
絶縁破壊電界(V/cm) | 3-5 x 106 | 3-5 x 106 |
飽和ドリフト速度(m/s) | 2.0 x 105 | 2.0 x 105 |
製品グレード | C Grade Research Grade (MPD 15 cm-2) |
SiC 4H-Nタイプ結晶基板
SiC 結晶基板(4H-Nタイプ)リサーチグレード
SiC結晶基板4H-Nタイプ(0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 350 um +/- 25 um(Nタイプ)
結晶方位: 4 +/- 0.5 deg off axis <0001>
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度: N-type: 〜1E18/cm
電気抵抗率4H-N: 0.015〜0.025 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
SiC結晶基板4H-Nタイプ(0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 350 um +/- 25 um(Nタイプ)
結晶方位: 4 +/- 0.5 deg off axis <0001>
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度: N-type: 〜1E18/cm
電気抵抗率4H-N: 0.015〜0.025 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
型番 | サイズ(mm) | 厚さ(mm) | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|
SiC-4H-N | 10 x 10 | 0.35 | 1 | ¥45,000 |
SiC 4H-Semi insulationタイプ結晶基板
SiC 結晶基板(4H-Semi insulationタイプ)リサーチグレード
SiC結晶基板4H半絶縁タイプ(0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 500 um +/- 25 um(SIタイプ)
結晶方位: 軸上:<0001> +/- 0.5 deg for 4H-SI
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度: SIタイプ(Vドープ):〜5E18/cm3
電気抵抗率4H-Si: > 1E5 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
SiC結晶基板4H半絶縁タイプ(0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 500 um +/- 25 um(SIタイプ)
結晶方位: 軸上:<0001> +/- 0.5 deg for 4H-SI
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度: SIタイプ(Vドープ):〜5E18/cm3
電気抵抗率4H-Si: > 1E5 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
型番 | サイズ(mm) | 厚さ(mm) | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|
SiC-4H-S | 10 x 10 | 0.5 | 1 | ¥60,000 |
SiC 6H-Nタイプ結晶基板
SiC 結晶基板(6H-Nタイプ)リサーチグレード
SiC結晶基板6H-Nタイプ (0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 350 um +/- 25 um(Nタイプ)
結晶方位: 軸外:6H-N <11-20>に向かって4.0度+/- 0.5度
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度:N-type: 〜1E18 / cm3
電気抵抗率6H-N: 0.015〜0.025 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
SiC結晶基板6H-Nタイプ (0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 350 um +/- 25 um(Nタイプ)
結晶方位: 軸外:6H-N <11-20>に向かって4.0度+/- 0.5度
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度:N-type: 〜1E18 / cm3
電気抵抗率6H-N: 0.015〜0.025 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
型番 | サイズ(mm) | 厚さ(mm) | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|
SiC-6H-N | 10 x 10 | 0.35 | 1 | ¥50,000 |
SiC 6H-Semi insulationタイプ結晶基板
SiC 結晶基板(6H-Semi insulationタイプ)リサーチグレード
SiC結晶基板6H半絶縁タイプ(0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 330 um +/- 25 um(SIタイプ)
結晶方位:軸上: <0001> +/- 0.5 deg for 6H-SI
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度:SIタイプ(Vドープ): 〜5E18 / cm3
電気抵抗6H-Si: > 1E5 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
SiC結晶基板6H半絶縁タイプ(0001)
サイズ: 10 mm x 10 mm(+/- 1mm)
厚さ: 330 um +/- 25 um(SIタイプ)
結晶方位:軸上: <0001> +/- 0.5 deg for 6H-SI
マイクロパイプ密度(MPD): 15 cm-2未満
ドーピング濃度:SIタイプ(Vドープ): 〜5E18 / cm3
電気抵抗6H-Si: > 1E5 Ohm-cm
両面研磨: Si面CMP研磨(エピレディ)
表面粗さ: 研磨Ra 1 nm(C面), CMP Ra 0.5 nm(Si面)
型番 | サイズ(mm) | 厚さ(mm) | 数量 | 価格 |
---|---|---|---|---|
SiC-6H-S | 10 x 10 | 0.33 | 1 | ¥68,000 |