会社概要
シングルナノポアSiNメンブレンTEMグリッド
シングルナノポア窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
Single Nanopore SiN Membrane TEM Grids
シングルナノポア窒化シリコン膜は、バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。ナノポアにまたがる粒子の画像化を可能にします。TEMアプリケーションだけでなく、ナノポア窒化シリコン膜は、次世代DNAシーケンシング(NGS)技術の開発、アプリケーションとして用いられキャリブレーションなし、増幅なし、低用量使用、長いシーケンス可読性、単一分子のハイスループット検出などの多くの利点があります。
Single Nanopore SiN Membrane TEM Grids
シングルナノポア窒化シリコン膜は、バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。ナノポアにまたがる粒子の画像化を可能にします。TEMアプリケーションだけでなく、ナノポア窒化シリコン膜は、次世代DNAシーケンシング(NGS)技術の開発、アプリケーションとして用いられキャリブレーションなし、増幅なし、低用量使用、長いシーケンス可読性、単一分子のハイスループット検出などの多くの利点があります。
| 型番 | SiN膜厚 (nm) |
ウィンドウ (mm) |
ポアサイズ (nm) |
フレーム (mm) |
フレーム厚 (um) |
数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SNT-NP15-005 | 15 | 0.05x0.05 | 20～200nm (+/-5nm) ポアサイズ選択可 |
3x3mm (TEM grid) |
200 | 5/pk | N/A |
| SNT-NP20-001 | 20 | 0.01x0.01 | 5/pk | ||||
| SNT-NP30-025 | 30 | 0.25x0.25 | 5/pk | ||||
| SNT-NP50-01 | 50 | 0.1x0.1 | 5/pk | ||||
| SNT-NP100-025 | 100 | 0.25 x 0.25 | 5/pk | ||||
| SNT-NP100-05 | 100 | 0.5x0.5 | 5/pk | ||||
| SNT-NP200-01 | 200 | 0.1x0.1 | 5/pk |
ナノポーラスSiNメンブレンTEMグリッド
ナノポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
Nanoporous SiN Membrane TEM Grids
.jpg)
バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。
ナノ多孔性SiNメンブレンは、平均ポア径30 nmにまたがる粒子の画像化を可能にします
メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン(アモルファス)
●20nm Low- stress SiNメンブレン
●平均細孔径: 30nm
●多孔率: 約25%
Nanoporous SiN Membrane TEM Grids
バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。
ナノ多孔性SiNメンブレンは、平均ポア径30 nmにまたがる粒子の画像化を可能にします
メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン(アモルファス)
●20nm Low- stress SiNメンブレン
●平均細孔径: 30nm
●多孔率: 約25%
| 型番 | メンブレン厚 | ポア径 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-P20Q33 | 20nm | 30nm | 100 x 100um | 9 | 100um | 10/pk | ¥88,000 |
マイクロポーラスSiNメンブレンTEMグリッド
マイクロポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
Microporous SiN Membrane TEM Gridss
.jpg)
●2～10umポアが20, 30, 50, 200nm窒化シリコンメンブレンに形成
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察 (例:グラフェン)
●高傾斜断層撮影(トモグラフィー)と同様にCryoEMで使用
●70°の角度では100umの薄くて斜角をつけられたシリコンフレームでウィンドウの
中心の中でどんな回転配向からも～50 x 50ミクロンの領域を使用できます
メンブレン: 窒化シリコン(アモルファス)
ポア径: 2, 2.8, 5, 10um
ポア間隔: 2, 10, 15um(ポア中心-ポア中心間隔)
Microporous SiN Membrane TEM Gridss
●2～10umポアが20, 30, 50, 200nm窒化シリコンメンブレンに形成
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察 (例:グラフェン)
●高傾斜断層撮影(トモグラフィー)と同様にCryoEMで使用
●70°の角度では100umの薄くて斜角をつけられたシリコンフレームでウィンドウの
中心の中でどんな回転配向からも～50 x 50ミクロンの領域を使用できます
メンブレン: 窒化シリコン(アモルファス)
ポア径: 2, 2.8, 5, 10um
ポア間隔: 2, 10, 15um(ポア中心-ポア中心間隔)
| 型番 | メンブレン厚 | ポア径 | ポア数 | 配列 | ポア間隔 | ウィンドウ | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-A20MP2Q05 | 20nm | 2um | 6400 | 80x80 | 2um | 500 x 500um | 100um | 10/pk | ¥88,000 |
| SN100-A50MP2Q05 | 50nm | 2um | 6400 | 80x80 | 10/pk | ¥88,000 | |||
| SN200-A30MP-2.8 | 30nm | 2.8um | 2025 | 45x45 | 10um | 200um | 10/pk | ¥88,000 | |
| SN200-A50MP-2.0 | 50nm | 2um | 2025 | 45x45 | 10/pk | ¥88,000 | |||
| SN200-A200-MP-5.0 | 200nm | 5um | 2401 | 49x49 | 10/pk | ¥88,000 | |||
| SN200-A50MP-10 | 50nm | 10um | 1024 | 32x32 | 15um | 10/pk | ¥88,000 |
