会社概要
シングルナノポアSiNメンブレンチップ
シングルナノポア窒化シリコンメンブレンチップ
Single Nanopore SiN Membrane chips
特 徴
SiNメンブレンウィンドウは、走査型透過X線顕微鏡(STXM)イメージング実験における理想的な生物学的サンプルサポートフィルムです。 放射光源のSTXM技術は、自然条件下で生体サンプルのサブミクロンの空間的および化学的分析を実行できます。また、高真空の軟X線部分を大気圧から分離するための真空ウィンドウとしても使用できます。細胞研究においてシンクロトロン放射ビームラインの汚染障壁として使用することができます。
【ライフサイエンスアプリケーション】
次世代DNAシーケンシング技術におけるシングルナノポア窒化シリコン膜は、キャリブレーションなし、増幅なし、低用量使用、長いシーケンス可読性、単一分子のハイスループット検出などの多くの利点があります。基本的なテスト原理は、溶液中の長鎖DNA分子が、窒化シリコン膜のナノ細孔を通る電界によって駆動されるというものです。 ナノポアのブロッキング効果により、イオン電流は瞬時に低下します。分子の構成は、電流の低下を分析することで取得できます。
Single Nanopore SiN Membrane chips
特 徴
SiNメンブレンウィンドウは、走査型透過X線顕微鏡(STXM)イメージング実験における理想的な生物学的サンプルサポートフィルムです。 放射光源のSTXM技術は、自然条件下で生体サンプルのサブミクロンの空間的および化学的分析を実行できます。また、高真空の軟X線部分を大気圧から分離するための真空ウィンドウとしても使用できます。細胞研究においてシンクロトロン放射ビームラインの汚染障壁として使用することができます。
【ライフサイエンスアプリケーション】
次世代DNAシーケンシング技術におけるシングルナノポア窒化シリコン膜は、キャリブレーションなし、増幅なし、低用量使用、長いシーケンス可読性、単一分子のハイスループット検出などの多くの利点があります。基本的なテスト原理は、溶液中の長鎖DNA分子が、窒化シリコン膜のナノ細孔を通る電界によって駆動されるというものです。 ナノポアのブロッキング効果により、イオン電流は瞬時に低下します。分子の構成は、電流の低下を分析することで取得できます。
| 型番 | SiN膜厚 (nm) |
ウィンドウ (mm) |
ポアサイズ (nm) |
フレーム (mm) |
フレーム厚 (um) |
数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SNX5-NP20-025 | 20 | 0.25x0.25 | 20～200nm (+/-5nm) ポアサイズ選択可 |
5x5mm | 200 | 5/pk | N/A |
| SNX5-NP30-025 | 30 | 5/pk | N/A | ||||
| SNX5-NP50-025 | 50 | 5/pk | N/A | ||||
| SNX5-NP100-01 | 100 | 0.1x0.1 | 5/pk | N/A | |||
| SNX5-NP200-01 | 200 | 5/pk | N/A | ||||
| SNX10-NP20-01 | 20 | 0.1x0.1 | 10x10mm | 5/pk | N/A | ||
| SNX10-NP100-01 | 100 | 5/pk | N/A |
ナノポアSiNメンブレンチップ
ナノポア窒化シリコンメンブレンスチップ
Nanoporous SiN Membrane chips
ナノポーラスSiNは、透過性、光学的透明性、および精密な細孔サイズをすべて同じ膜材料で提供します。ナノポアはナノメートルの厚さのSiN層内にランダムに作成されます。 このプロセスにより、非常に高い細孔密度、したがって透過性の高い膜が生成されます。 これらのナノポーラスSiNメンブレンは原子的に平坦で化学的に不活性であるため、さまざまな種類のサンプルで生物付着や非特異的な相互作用を大幅に低減できます。
● メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 100nm
● ポア径: 50 nm
● 多孔率: 20%
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm(外径)
● フレーム厚: 310um
● スロット仕様: 0.7 x 2, 0.7 x 2.5, 0,3 x 3mm
Nanoporous SiN Membrane chips
ナノポーラスSiNは、透過性、光学的透明性、および精密な細孔サイズをすべて同じ膜材料で提供します。ナノポアはナノメートルの厚さのSiN層内にランダムに作成されます。 このプロセスにより、非常に高い細孔密度、したがって透過性の高い膜が生成されます。 これらのナノポーラスSiNメンブレンは原子的に平坦で化学的に不活性であるため、さまざまな種類のサンプルで生物付着や非特異的な相互作用を大幅に低減できます。
● メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 100nm
● ポア径: 50 nm
● 多孔率: 20%
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm(外径)
● フレーム厚: 310um
● スロット仕様: 0.7 x 2, 0.7 x 2.5, 0,3 x 3mm
| 型番 | メンブレン厚 | ポア径 | スロット | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|
| NPSN100-1L | 100nm | 50nm | 0.7x2 mm x 1 | 10/pk | ¥150,000 |
| NPSN100-2L | 0.7x2.5 mm x 2 | 10/pk | ¥150,000 | ||
| NPSN100-4L | 0.3x3 mm x 4 | 10/pk | ¥150,000 |
マイクロポアSiNメンブレンチップ
マイクロポア窒化シリコンメンブレンチップ
Microporous SiN Membrane chips
マイクロポアメンブレンは、さまざまなアッセイおよびフィルタリングアプリケーション用の広い作業領域を提供します。 400nm厚のSiN膜は、要求の厳しいマイクロ流体アプリケーションに堅牢性を提供します(膜は15psi以上の差圧に耐えます)。透過性の高いメンブレン(多孔率:20%)は、マイクロ流体デバイス内の低圧力損失の動作条件をサポートします。直径0.5、3.0または8.0μmの細孔でのカットオフの選択は、さまざまなアッセイまたは実験機能をサポートします。
● メンブレン: マイクロポア窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 400nm
● ポア径: 0.5, 3, 8um
● 多孔率: 20%
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm
● フレーム厚: 310um
● スロットサイズ: 0.7 x 3mm (3)
Microporous SiN Membrane chips
マイクロポアメンブレンは、さまざまなアッセイおよびフィルタリングアプリケーション用の広い作業領域を提供します。 400nm厚のSiN膜は、要求の厳しいマイクロ流体アプリケーションに堅牢性を提供します(膜は15psi以上の差圧に耐えます)。透過性の高いメンブレン(多孔率:20%)は、マイクロ流体デバイス内の低圧力損失の動作条件をサポートします。直径0.5、3.0または8.0μmの細孔でのカットオフの選択は、さまざまなアッセイまたは実験機能をサポートします。
● メンブレン: マイクロポア窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 400nm
● ポア径: 0.5, 3, 8um
● 多孔率: 20%
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm
● フレーム厚: 310um
● スロットサイズ: 0.7 x 3mm (3)
| 型番 | メンブレン厚 | ポア径 | スロット | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|
| MPSN400-3L-0.5HP | 400nm | 0.5um | 0.7x3 mm x 3 | 10/pk | ¥150,000 |
| MPSN400-3L-3.0HP | 3um | 10/pk | ¥150,000 | ||
| MPSN400-3L-8.0HP | 8um | 10/pk | ¥150,000 |
マイクロスリットSiNメンブレンチップ
マイクロスリットSiNメンブレンチップ
Silicon Nitride Microslit Membranes chips
さまざまなアッセイおよびフィルタリングアプリケーション用の広い作業領域を提供します。400nm厚のSiN膜は、要求の厳しいマイクロ流体アプリケーションに堅牢性を提供します(膜は15psi以上の差圧に耐えます)。透過性の高いメンブレン(多孔率:10%)は、マイクロ流体デバイス内の低圧力損失の動作条件をサポートします。ろ過中の汚れや固形成を抑える革新的な長方形のプリズム形開口部(長さ50μm)の細孔形状。0.5、1.0または8.0μmのマイクロスリット幅でのカットオフの選択は、さまざまなアッセイまたは実験機能をサポートします。
● メンブレン: マイクロスリット窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 400nm
● SiNスリットサイズ: 5種類(下記表参照)
● 多孔率: 10%
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm
● フレーム厚: 310um
● スロットサイズ: 0.7 x 3mm (3)
Silicon Nitride Microslit Membranes chips
さまざまなアッセイおよびフィルタリングアプリケーション用の広い作業領域を提供します。400nm厚のSiN膜は、要求の厳しいマイクロ流体アプリケーションに堅牢性を提供します(膜は15psi以上の差圧に耐えます)。透過性の高いメンブレン(多孔率:10%)は、マイクロ流体デバイス内の低圧力損失の動作条件をサポートします。ろ過中の汚れや固形成を抑える革新的な長方形のプリズム形開口部(長さ50μm)の細孔形状。0.5、1.0または8.0μmのマイクロスリット幅でのカットオフの選択は、さまざまなアッセイまたは実験機能をサポートします。
● メンブレン: マイクロスリット窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 400nm
● SiNスリットサイズ: 5種類(下記表参照)
● 多孔率: 10%
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm
● フレーム厚: 310um
● スロットサイズ: 0.7 x 3mm (3)
| 型番 | メンブレン厚 | スリットサイズ | スロット | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|
| MSSN400-3L-1.0 | 400nm | 1 x 50um | 0.7x3 mm x 3 | 10/pk | ¥150,000 |
| MSSN400-3L-2.0 | 2 x 50um | 10/pk | ¥150,000 | ||
| MSSN400-3L-4.0 | 4 x 50um | 10/pk | ¥150,000 | ||
| MSSN400-3L-8.0 | 8 x 50um | 10/pk | ¥150,000 | ||
| MSSN400-3L-10.0 | 10 x 50um | 10/pk | ¥150,000 |
ナノ+マイクロポアSiNメンブレンチップ
ナノ+マイクロポア窒化シリコンメンブレンスチップ
Nano + Microporous SiN Membrane chips
ナノ + マイクロポーラスSiNメンブレンチップは、100nmSiN膜層内に～50nmマイクロポアがランダムに形成され、さらに直径3.0umのマイクロポアが形成されています。
● メンブレン: ナノ + マイクロポーラス窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 100 nm
● ポア径: ～50 nm + 3.0 um
● 多孔率: ~15% (50 nm), ~0.6% (3 μm)
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm(外径)
● フレーム厚: 310um
● スロット仕様: 0.7 x 2 mm
Nano + Microporous SiN Membrane chips
ナノ + マイクロポーラスSiNメンブレンチップは、100nmSiN膜層内に～50nmマイクロポアがランダムに形成され、さらに直径3.0umのマイクロポアが形成されています。
● メンブレン: ナノ + マイクロポーラス窒化シリコン
● SiNメンブレン厚: 100 nm
● ポア径: ～50 nm + 3.0 um
● 多孔率: ~15% (50 nm), ~0.6% (3 μm)
● フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm(外径)
● フレーム厚: 310um
● スロット仕様: 0.7 x 2 mm
| 型番 | メンブレン厚 | ポア径 | スロット | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|
| DSN100-1L-MP-3.0 | 100nm | 50nm + 3um | 0.7x2 mm x 1 | 10/pk | ¥175,000 |
