会社概要
マイクロポーラスSiOメンブレンTEMグリッド
マイクロポーラス酸化シリコンメンブレンTEMグリッド
Microporous SiO Membrane TEM Grids
●2umポアが50nm酸化シリコンメンブレンに形成(2umポア- 1:1ピッチ)
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察
●トモグラフィーと同様にCryo EMで使用
メンブレン: 50nm酸化シリコン
ポア径: 2um
ポア間隔: 2um(ポア中心-ポア中心間隔)
ポア数: 6,400
Microporous SiO Membrane TEM Grids
●2umポアが50nm酸化シリコンメンブレンに形成(2umポア- 1:1ピッチ)
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察
●トモグラフィーと同様にCryo EMで使用
メンブレン: 50nm酸化シリコン
ポア径: 2um
ポア間隔: 2um(ポア中心-ポア中心間隔)
ポア数: 6,400
| 型番 | メンブレン厚 | ポア径 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SO200-A50MP2Q05 | 50nm | 2um | 500 x 500um | 1 | 200um | 10/pk | ¥150,000 |
